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納米壓印是一種全新的納米圖形復(fù)制方法，實(shí)質(zhì)是將傳統(tǒng)的模具復(fù)型原理應(yīng)用到微觀制造領(lǐng)域。它是通過(guò)將刻有目標(biāo)圖形的母版壓印到相應(yīng)的襯底（通常是一層很薄的聚合材料）上實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移，以完成微納米加工的光刻步驟。納米壓印技術(shù)是制作納米結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵，具有廣闊的應(yīng)用前景。

利用芯明天P18.XY300二維掃描臺(tái)，可帶動(dòng)鍍膜鏡片在0~300μm的平面內(nèi)對(duì)讀取的圖像信息進(jìn)行優(yōu)化，同時(shí)控制激光器及掃描臺(tái)，二者配合完成圖像的納米精度加工。

下圖為通過(guò)芯明天運(yùn)動(dòng)控制軟件操作二維壓電掃描臺(tái)，激光光刻的100μm×100μm圖標(biāo)。

P18.XY300壓電掃描臺(tái)

P18.XY300為二維直線掃描臺(tái)。臺(tái)體采用機(jī)構(gòu)放大設(shè)計(jì)原理，內(nèi)置高可靠性壓電陶瓷，可以實(shí)現(xiàn)375μm的高速掃描，運(yùn)動(dòng)直線性好，配套芯明天大功率控制器響應(yīng)時(shí)間可達(dá)5ms，通光孔徑為Ø35mm，是精密加工、半導(dǎo)體制造、掃描顯微等應(yīng)用的不錯(cuò)選擇。

 特點(diǎn)

·位移可達(dá)375μm/軸

·承載達(dá)3kg

·通孔直徑：Ø35mm

·閉環(huán)重復(fù)定位精度高

階躍時(shí)間

單點(diǎn)定位應(yīng)用，P18.XY300S帶載100g負(fù)載階躍時(shí)間60ms。

技術(shù)參數(shù)